这是面板显示行业，目前先进的OLED蒸发镀膜PVD设备，图纸仅供参考！不可以编辑！仅为整机设备框架！工艺腔细节没有了！赠送相应手册资料和行业报告资料等！
OLED PVD 镀膜，核心是在超高真空下用热蒸镀 / 磁控溅射沉积纳米级有机 / 无机薄膜，是 AMOLED 面板发光层、电极、封装的核心制程。
PVD（物理气相沉积）：真空环境中，材料由固态→气态→固态薄膜，无化学反应。
OLED 主流 PVD：
真空热蒸镀（Thermal Evaporation）：用于有机功能层（空穴传输、发光、电子传输）。
磁控溅射（Magnetron Sputtering）：用于透明电极（ITO）、金属阴极、封装层。
结构：超高真空腔（10⁻⁷–10⁻⁸ Pa）、蒸发源、掩模板（Fine Metal Mask, FMM）、基板 / ITO。
流程：
真空抽至10⁻⁷ Pa级别。
蒸发源加热（电阻 / 电子束），有机材料升华成分子流。
分子流直线运动，穿过FMM镂空像素区，沉积到 ITO 基板。
逐层沉积：空穴注入→空穴传输→发光层→电子传输→电子注入（总厚100–200 nm）。
金属阴极蒸镀（如Al、Mg/Ag）。
关键参数：
真空度：<1×10⁻⁶ Pa（防有机材料氧化）。
膜厚精度：±1 nm（亮度 / 色度均匀）。
掩模精度：±2 μm（决定像素分辨率）。
透明电极（ITO）：Ar 离子轰击 ITO 靶，沉积100–150 nm ITO 膜，低方阻、高透光。
金属阴极：溅射Al、Mg/Ag，低电阻率、高反射。
薄膜封装（TFE）：溅射 / PECVD 交替沉积SiNx/SiO₂，水氧阻隔WVTR<10⁻⁶ g/m²/day。
| # | 文件名称 | 大小 |
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| 1 | 
PVD镀膜设备图纸和手册资料/OLED电镀沉积系统Operation_Manual.pdf
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17.67M |
| 2 |
PVD镀膜设备图纸和手册资料/PVD 镀膜两大主流：溅射镀膜和真空蒸发镀膜.pdf
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2.04M |
| 3 |
PVD镀膜设备图纸和手册资料/半导体设备图纸更多下载www.semimodel.com.pdf
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290.75K |
| 4 |
PVD镀膜设备图纸和手册资料/真空镀膜试验机.SLDASM
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71.03M |
| 5 |
PVD镀膜设备图纸和手册资料
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