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ASM XP4 ALD 平台的主要特点包括：
模块化集群架构： “XP4”指的是 ASM 的多模块 300mm 真空集群平台，该平台最多可支持四个独立的 ALD 反应器模块，围绕中央自动化晶圆处理真空主机配置，以最大限度地提高工厂吞吐量和占地面积效率。
Pulsar® ALD 模块： 通常用于沉积高介电常数栅极介质（例如氧化铪或硅酸铪）和覆盖层。 它采用小体积等温横流反应器设计，针对精确的层流气体流动、最短的吹扫时间和专用的固体源前驱体输送进行了优化。
EmerALD® ALD 模块： 也可配置用于金属栅极层、低温氧化物和电容器电极。 它采用喷淋式气体分配机制，可在复杂的 3D 形貌上实现均匀的反应物浓度，并具备直接/远程等离子体功能和原位腔室清洁功能。
工艺控制与精度： 专为先进的 CMOS 微缩、栅堆叠和存储器应用而设计，在这些应用中，严格的原子级厚度控制、高薄膜纯度和低缺陷密度是必须的。
