Axcelis（亚舍立）是全球第二大离子注入机厂商，市占约 40%，在SiC/GaN 宽禁带与高能 MeV领域优势明显，产品线以统一的Purion 平台为主，覆盖大 / 中 / 高能全系列。
前身是 Eaton 半导体部门，2000 年独立为 Axcelis；长期与 AMAT（原 Varian）双寡头竞争
核心优势：
统一 Purion 平台：大 / 中 / 高能共享基础架构，备件与运维通用性强。
RF LINAC 直线加速器：高能机主流技术，能量高、金属污染控制好
SiC 专用工艺：高温注入（最高 650°C）、高铝离子束流，功率器件市占领先。
点束扫描（Spot Beam）：整片晶圆入射角一致，均匀性与角度控制优异。
